白皮书：自对准块，适用于IN5金属2的全对准通孔，自对准四轮图案

本文评估了自对准块（SAB），并通过IN5（IMEC节点5nm）车辆和金属2自对准四倍图案来图案化自对准块（SAB）和全对准的通孔（FSAV）方法。我们使用过程优化分析光刻过程中的SAB可印刷性，并证明SAB对A（8M2线X 6 M1线X 6通量）结构的图案化产量的影响。我们展示FSAV与通过图案化的标准相比，没有有益的影响，但防止两个相邻的M1线之间的介电击穿。

Benjamin Vincent，Joern-Holger Franke，Aurelie Juncker，Frederic Lazzarino，Gayle Murdoch，Sandip Halder，Joseph Ervin

https://doi.org/10.1117/12.2298761

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