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反复试验
工程类
Coventor的软件平台有助于解决先进的半导体制造和微机电系统(MEMS)设计自动化的挑战。
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行动中的3D模型…
使用Coventor开发的半导体工艺模拟,该3D模型显示了高分辨率FinFET器件的一小部分。该图显示了结构的一部分,每边约为600 nm(约为橙色光的波长)。17种颜色中的每一种都代表制造过程中的不同材料。
该模型是完全集成的,具有高度的预测性和极高的准确性,显示了从起始晶圆到FEOL到后端金属层的所有过程。它突出了Semultact3D先进的虚拟晶圆制造能力,包括多重蚀刻、可见性限制沉积、选择性外延和其他半导体制造工艺。
(学分:彼得·弗里德、ARC-3D和纽约大学应用物理系)
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